- चीन AI semiconductor technology में आत्मनिर्भरता के लक्ष्य के साथ एक बड़े राष्ट्रीय प्रोजेक्ट को आगे बढ़ा रहा है
- EUV lithography equipment prototype को गुप्त रूप से बनाकर अत्याधुनिक semiconductor आत्मनिर्भरता हासिल करने की कोशिश की जा रही है
- ASML के पूर्व इंजीनियरों की भागीदारी से extreme ultraviolet (EUV) light source generation में सफलता मिली है, लेकिन commercial chip production के चरण तक अभी नहीं पहुँचा गया है
- सरकार-नेतृत्व वाले दीर्घकालिक प्रोजेक्ट में Huawei design से लेकर equipment और manufacturing तक हर स्तर पर शामिल है
- पश्चिमी export controls के बावजूद used equipment और parts की वैकल्पिक खरीद तथा reverse engineering के जरिए तकनीकी क्षमता जुटाई जा रही है
- लक्ष्य वर्ष 2028 बताया गया है, लेकिन भीतर ही भीतर 2030 को अधिक यथार्थवादी समयसीमा माना जा रहा है
अवलोकन: EUV में आत्मनिर्भर बनने की चीन की कोशिश
- यह पुष्टि हुई है कि चीन ने Shenzhen की एक उच्च-सुरक्षा research facility में EUV lithography equipment prototype पूरा कर उसका परीक्षण शुरू कर दिया है
- यह उपकरण AI, smartphone और military systems के लिए जरूरी ultra-fine semiconductor process का मुख्य साधन है, और अब तक यह पश्चिम के प्रभुत्व वाला क्षेत्र रहा है
- यह prototype इतना बड़ा है कि एक फैक्टरी की पूरी मंजिल घेर ले, और 2025 की शुरुआत में पूरा होने के बाद यह EUV light source generation तक पहुँच चुका है
EUV तकनीक का महत्व और वर्तमान स्थिति
- EUV वह तकनीक है जो बाल से हजारों गुना पतले circuit patterns को silicon wafer पर उकेरती है, और यही chip performance तय करती है
- इस समय commercial EUV equipment रखने वाली कंपनी सिर्फ ASML है, और एक मशीन की कीमत लगभग 250 million dollar है
- चीन का prototype अभी सही तरह काम करने वाले chips का उत्पादन नहीं कर सका है, और optical precision में अब भी बड़ा अंतर है
प्रोजेक्ट की संरचना और नेतृत्व
- यह प्रोजेक्ट 6 साल से चल रही राष्ट्रीय semiconductor आत्मनिर्भरता रणनीति का नतीजा है, और Xi Jinping के प्रमुख राष्ट्रीय एजेंडा में गिना जाता है
- Central Science and Technology Commission का नेतृत्व करने वाली Ding Xuexiang की लाइन इसकी देखरेख कर रही है, जबकि Huawei corporate और research institution network का समन्वय कर रहा है
- संबंधित लोग इसे चीन का ‘Manhattan Project’ कह रहे हैं, जिसका लक्ष्य पूर्ण तकनीकी स्वतंत्रता है
प्रतिभा जुटाना और सुरक्षा व्यवस्था
- इस प्रोजेक्ट में सेवानिवृत्त चीनी मूल के ASML engineers और scientists की बड़ी संख्या शामिल है
- इनमें से कुछ लोग छद्म नाम वाले पहचान पत्र का उपयोग करते हैं और facility के बाहर की दुनिया से पूरी तरह कटे हुए काम करते हैं
- 2019 के बाद से विदेशों में semiconductor talent को लुभाने के लिए बड़े signing bonuses और housing subsidies देने वाली आक्रामक hiring चलाई गई
- यूरोपीय data privacy कानूनों के कारण ASML को पूर्व कर्मचारियों को track करने और NDA लागू कराने में सीमाएँ झेलनी पड़ रही हैं
तकनीकी चुनौतियाँ और optical समस्याएँ
- चीन का prototype आकार और संरचना, दोनों में ASML की मशीनों से कहीं अधिक विशाल है और अभी भी काफी प्रारंभिक स्तर का माना जा रहा है
- सबसे बड़ा bottleneck यह है कि Carl Zeiss द्वारा आपूर्ति किए जाने वाले high-precision optical system का विकल्प अभी नहीं बन पाया है
- extreme ultraviolet generation की प्रक्रिया में ultra-high-temperature plasma, contamination control और stability सुनिश्चित करना मुख्य चुनौती बना हुआ है
parts procurement और वैकल्पिक रणनीति
- चीन ने used ASML equipment parts और secondary market का उपयोग कर मुख्य components जुटाए हैं
- Nikon और Canon जैसी जापानी कंपनियों के export-restricted parts भी brokers के जरिए पहुँचने के संकेत मिले हैं
- international bank auctions और Alibaba Auction के जरिए older lithography equipment की लगातार खरीद-फरोख्त हो रही है
Huawei की भूमिका और संगठन संचालन
- Huawei chip design से लेकर equipment, manufacturing और product integration तक पूरी supply chain में सीधे शामिल है
- semiconductor team के कर्मचारी on-site रहकर, संचार-सीमित माहौल में काम करते हैं, और teams के बीच जानकारी का आदान-प्रदान सख्ती से अलग रखा जाता है
- CEO Ren Zhengfei सीधे चीन के शीर्ष नेतृत्व को प्रगति की रिपोर्ट देने वाली व्यवस्था बनाए हुए हैं
आगे की समयरेखा और मूल्यांकन
- सरकारी लक्ष्य 2028 तक काम करने वाले chips का उत्पादन है, लेकिन अंदरूनी तौर पर 2030 को अधिक यथार्थवादी माना जा रहा है
- यह देखते हुए कि ASML ने 2001 के prototype के बाद 2019 में जाकर commercialization हासिल की, काफी लंबे तकनीकी संचयन की जरूरत होगी
- विश्लेषकों का कहना है कि यदि EUV light source की output, reliability और contamination control सुनिश्चित हो जाए, तो इसे महत्वपूर्ण प्रगति माना जाएगा
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